Kategorie
- PIELĘGNACJA
- STYLIZACJA
- KOLORYZACJA
- SPRZĘT
- NARZĘDZIA I AKCESORIA
- KOSMETYKA
- PAZNOKCIE
- MAKIJAŻ
- MĘŻCZYZNA
- MEBLE
-
MARKI
- Abril
- Alfaparf
- Apis
- Babyliss
- Barbieri Italiani
- Bielenda
- Chantal
- CHI
- C.Ehko
- Dessata
- Diapason
- Eti
- Fanola
- Fox
- Gamma Piu
- Hi hybrid
- Iron Bubble
- Jaguar
- Kallos
- Kiepe
- Kinetics
- Kepro
- Kreativ
- KST
- Lisap
- Loreal
- Matsuzaki
- Morfose
- Moser
- Nappa
- Olivia Garden
- Poniks
- Pro F
- RefectoCil
- Remington
- Rene Blanche
- Schwarzkopf
- Semilac
- Silcare
- Skull
- Sono
- Styletek
- Subtil
- Tangle
- Tondeo
- Versum
- Wahl
- Ultron
- Yellow
- Pozostałe
- PROMOCJE
- Dietetyka, odchudzanie
- Fryzjerstwo
- Kosmetyka
- Ochrona Zdrowia
- Stylizacja
- Pozostałe
Wyszukiwarka

LISAP ONE NATURALE lakier nat. utrwalający 500ML
Dostępność:
59 szt.
Cena brutto:
Opis:
LISAP ONE NATURALE lakier naturalnie utrwalający 500MLCharakterystyka:
Szukasz sposobu na utrwalenie fryzury bez nadmiernego obciążania włosów? Rozwiązanie przynosi naturalnie utrwalający lakier do wlosów Lisap Lisynet One. Nadaje on włosów strukturę, ale nie przyczynia się przetłuszczania. Pozwala osiągnąć efekt naturalnej i lekkiej fryzury. Zawiera makromolekuły krzemowe, które odżywiają i nawilżają włosy, a także polimery IT, odpowiedzialne za nadanie kształtu uczesaniu. Poza tym formuła Silsoft Protection chroni przed wilgocią oraz czynnikami zewnętrznymi i daje Ci pewność, że będziesz mieć idealną fryzurę w każdych warunkach.
Idealna fryzura z naturalnie utrwalającym lakierem Lisap Lisynet One:
- mocne utrwalenie
- polimery IT - nadają fryzurze kształt
- Silsoft Shine - makromolekuły krzemowe, odpowiadające za odżywienie i nawilżenie pasm
- Silsoft Protection - ochrona przed wilgocią oraz czynnikami zewnętrznymi
- utrwalenie bez obciążania
- naturalny, lekki efekt
Sposób użycia :
Spryskaj lekko wilgotne albo suche włosy z odległości ok. 30-40cm.
Pojemność: 500ml
LISAP LISYNET LAKIER | |
Towar | |
23 (23%) | |
szt. | |
Kosmetyki Fryzjerskie | |
1404710000012 |
- Lisap
- STYLIZACJA I MODELOWANIE WŁ